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平行光曝光機
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平行光曝光機
產品型號：UVE-A260
產品聯絡人
(台灣)廖先生
- 適用範圍：
製程板尺寸：254×304.8mm(10″x12″)~558.8x635mm(22″~25″)
製程板厚度：0.05~2mm
底片尺寸：24″x27″ - 機台外型(W/D/H)：2840/2900/2237.5(mm)
- 高產速：機械動作時間8秒
- 高精度：檯面對位精度3σ<10μm
- 高解析：平行光線路解析2mi/2mi保證
- 全機Class1000無塵等級
- 入出料傳動磁力環設計無產塵疑慮
- 高剛性底座強化機台穩定度
- PassLine高度950~1030mm符合無塵需求
- 移動式視覺與背光模組提高最大板邊利用率
- 新型對位演算法，保證均分底片誤差
- 曝光室環境控制系統有效增加A/W穩定
- 線性馬達移載系提高無塵度、精度、速度
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