[內外層共用][半自動]
平行光曝光機
[內外層共用][半自動]
平行光曝光機
產品型號：UVE-M565F
產品聯絡人
(台灣)廖先生
- 適用範圍：
製程板尺寸：305x355mm(12″x14″)~546x622mm(21.5″~24.5″)
製程板厚度：0.1~3.2mm
底片尺寸：24″x27″ - 機台外型(W/D/H)：1545/3513/2270(mm)
- 高解析台框設計
- 4或2CCD自動對位
- 左右對照式保護光閘設計
- 高產速、高產能
- 曝光均勻度達85%以上
- 底片更換時間≦5min
- 曝光室溫度控制22℃±2℃，溼度控制55%±5%
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