WLP/PLP 光阻去除机
WLP/PLP 光阻去除机
SKU：HDPR-WLP1000-300/HDPR-PLP1000-500
1.适用于8″/12″晶圆及大尺寸板
2.系统可选择2个或4个制程腔
3.稳定的传输系统
4.可选择3种制程模式：微波、射频、两者饼用
5.独特的流场设计
6.优异的均匀性和稳定性
7.全面数位控制系统,具连网功能
8.配置Windows 系统PC
9.精简的设计及高生産量，达成最佳化的性能表现
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1.适用于8″/12″晶圆及大尺寸板
2.系统可选择2个或4个制程腔
3.稳定的传输系统
4.可选择3种制程模式：微波、射频、两者饼用
5.独特的流场设计
6.优异的均匀性和稳定性
7.全面数位控制系统,具连网功能
8.配置Windows 系统PC
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